ÀϺ» ³ª³ë¼¶À¯°³¹ßÀÇ ÇöȲ°ú Àü¸Á
¡à 2010³â 2¿ù 17~19ÀÏ µµÄì¿¡¼ ¡®Nanotech 2010'ÀÌ °³ÃֵǾú´Ù. °íºÐÀÚ¿Í Ä«º»³ª³ë¼¶À¯¿¡ °üÇÑ °ÍÀÌ ¸¹ÀÌ Àü½ÃµÇ¾ú´Âµ¥ NEDO´Â µµÄì°ø¾÷´ëÇаú Âü°¡ 11°³ ±â¾÷À» Áß½ÉÀ¸·Î ¼öÇàÇÑ ¡¯Ã·´Ü±â´É ¹ßÇö ½Å±¸Á¶¼¶À¯ ºÎÀç±â¹Ý±â¼úÀÇ °³¹ßÇÁ·ÎÁ§Æ®(³ª³ë¼¶À¯ÇÁ·ÎÁ§Æ®)¡®ÀÇ ¼º°ú¸¦ Àü½ÃÇÏ¿´´Âµ¥, Àü°è ¹æÀûÀåÄ¡, °¢Á¾ °íºÐÀÚ ³ª³ë¼¶À¯¿Í Ä«º»¼¶À¯, ½ºÆ÷Ã÷¿þ¾î, ¿¡¾îÇÊÅÍ, À¯±â¶óµðÄ®ÀüÁö, ³¿»õÁ¦°ÅÁ¦ µî ³ª³ë¼¶À¯ ¾ç»ê±â¼ú°ú ¿ëµµ°³¹ß¿¡¼ Å©°Ô ¹ßÀüÇÏ¿´´Ù´Â ÀλóÀ» ¹Þ¾Ò´Ù.
¡à ¶ÇÇÑ ±â¾÷Àº Ä«º»³ª³ëÆ©ºê(CNT)¿¡ °üÇÑ º¹ÇÕÀç·á·Î Àü¿Àç·á¿Í Çöó½ºÆ½µîÀÇ °ÈÀç·á¿¡ ´ëÇÑ ¿ëµµ°³¹ßÀÌ ¸¹ÀÌ ÁøôµÇ¾ú´Ù. ³ª³ë¼¶À¯´Â ¸Ó¸®Ä«¶ôÀÇ 1/1000Á¤µµÀÇ Á÷°æÀ» °¡Áø ¼¶À¯»ó¹°ÁúÀε¥ ³ª³ë»çÀÌÁî ¼¶À¯¿Í ³ª³ë±¸Á¶¼¶À¯·Î ±¸ºÐµÈ´Ù. ³ª³ë»çÀÌÁî ¼¶À¯´Â Á÷°æÀÌ 1nm~100nm, Á÷°æ¿¡ ´ëÇÑ ±æÀÌ ºñ°¡ 100ÀÌ»óÀÎ ¹°Áú·Î Á¤ÀÇÇÏÁö¸¸ °æ¿ì¿¡ µû¶ó¼´Â Á÷°æÀ» °¡½Ã±¤ÀÇ ÆÄÀ念¿ªÀ» Æ÷ÇÔÇÏ¿© 100nm±îÁö È®ÀåÇÑ´Ù.
¡Ø Ãâó: ¡ºReSeat ¸ð´ÏÅ͸µ ºÐ¼®º¸°í¼¡»
°ü·ÃÀÚ·á ÷ºÎ
|